Eine Gruppe prominenter chinesischer Wissenschaftler und Ingenieure hat die heimische Halbleiterindustrie als „klein, verstreut und schwach“ kritisiert und fordert eine Neuausrichtung, um die Abhängigkeit vom Westen zu verringern. Der Plan sieht vor, bis 2030 die 28-Nanometer-Fertigung zu festigen, eine stabile 14-nm-Produktion zu erreichen und eine vollständig chinesische 7-nm-Linie in den Probebetrieb zu nehmen, was eine Lücke zur internationalen Konkurrenz bis dahin offenlässt. Während China mit eigenen Systemen 28-nm-Chips herstellen kann, bleiben bei der 14-nm-Generation Fragen zur Ausbeute offen, und 7-nm-Chips sind nur mit importierten ASML-Systemen möglich, deren Nutzung durch Exportbeschränkungen limitiert ist. Die Wissenschaftler schlagen Zusammenschlüsse von Firmen und eine verbesserte Integration von Technologien vor, um die Fragmentierung zu überwinden und die Entwicklung eigener Lithografiesysteme, einschließlich EUV-Technologie, voranzutreiben.